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顶级光刻机售价近12亿元!中国企业能随便买的,是另一种

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发表于 2020-10-16 09:28:22 | 显示全部楼层 |阅读模式
围绕芯片制造要用到的关键设备——光刻机,一直不缺话题
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5 ]! ~) T. d- S# N" F$ m比如,一台EUV光刻机卖多少钱?谁买走了这些EUV光刻机?大陆厂商还能买到光刻机吗?为何三星高管最近跑去荷兰拜访ASML总部?/ ^9 N! [: T1 ^

3 p( `$ `- R: p' \' N8 y. P上面这几个问题,其实可以在ASML和台积电最新发布的三季报及业绩说明会中找到部分答案。两家公司的地位无需多言,前者是全球顶级光刻机龙头,后者是全球芯片制造龙头。
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. c( c8 o* i/ t0 x. ?  w一台售价近12亿元
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关于售价,ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink10月14日介绍公司三季度业绩情况时间接给出了答案。他表示,“我们第三季度的新增订单达到29亿欧元,其中5.95亿欧元来自4台EUV设备。”简单换算一下,一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元。
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% e0 E/ R: V1 d/ b, \# A+ ]( f图片来源:ASML3 _) G" C2 |+ l- u" l1 l) t

: z4 a1 D4 E: u. B这是什么概念?2019年,A股还有1462家上市公司的营业收入低于11.74亿元。换句话说,ASML每年卖一台EUV光刻机,收入就可完胜A股的1/3公司。
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& t9 P# K9 `% p3 A) ~0 W1 q( S. r* t售价这么高,ASML根本不愁买家,公司愁的是产能跟不上需求。
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ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。
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, K2 H( J$ J# d  R  J据了解,EUV光刻机不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精细图形,没有超纯水和晶圆接触,在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。
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ASML的EUV光刻机也在推陈出新。公司10月14日还公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格,曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产效率,计划于2021年的中期开始发货。& G  n. D, @! q
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ASML三季度净销售额为40亿欧元,预计四季度的销售额将在36亿欧元到38亿欧元之间,毛利率约50%。“2021年,由于宏观环境的不确定因素,包括疫情给经济带来的影响,以及地缘政治的变化,我们预期业绩增长将是低双位数。尽管如此,终端市场驱动因素的变化(比如5G、人工智能和高性能计算),将推动先进制程的逻辑芯片和存储芯片的市场需求,这都需要使用到先进的光刻机。” Peter Wennink说。
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/ U9 W% D4 K1 I; `7 X8 r; B/ t芯片大厂争购
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# t* E. }' J. J. M( tASML的EUV光刻机在2016年正式上市,主要供应给英特尔、台积电和三星这三家大客户。其EUV光刻机出货量一直在增加,从2016年的5台上升到2019年的26台。
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目前,台积电已将可量产的工艺推到5nm,大幅领先英特尔和三星;同时,按照计划,公司3nm工艺将在明年试产,2022年下半年正式量产。重要的是,客户对其7nm工艺和5nm工艺的需求十分强劲,这两项工艺的收入占比在三季度已达43%。因此,台积电对EUV光刻机的需求无疑也是最强劲的。
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图片来源:台积电三季报8 N) o. D$ J  g  ?# ^
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近期有媒体报道,由于先进工艺推进顺利和订单扩大,台积电将加大EUV光刻机的采购力度,预计到2021年底采购量至55台左右。台积电方面回复中国证券报记者采访时表示,公司不评论市场传闻。前述媒体援引半导体供应链消息称,台积电采购的EUV光刻机已经超过30台,三星累计采购的EUV光刻机不到20台。) H0 K) [) ^* T6 A

" i$ U5 _; P  c, A值得注意的是,ASML的财报显示,三季度来自中国台湾地区贡献的收入占比为47%,环比提高了26个百分点。业界认为,这主要是由台积电采购EUV光刻机带来。
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与此同时,ASML来自韩国的收入占比出现下降,从二季度的38%下降到三季度的26%。有报道称,三星电子副董事长李在镕近日飞赴ASML荷兰总部会晤,双方探讨的核心是EUV光刻机的供应和装配(5nm),同时就面向AI等领域的下一代光刻机研发合作交换了意见。
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当然,ASML光刻机的买家还有大陆厂商,但购买EUV光刻机存在阻力,而购买DUV光刻机无碍。Peter Wennink表示,“根据当前法规,ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统;对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户,ASML需获得许可证。”
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EUV光刻机和DUV光刻机有什么不同?
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根据曝光源的不同,光刻机分为EUV型(极深紫外线)、DUV型(深紫外线)。从制程范围来看,DUV基本上只能做到25nm,而EUV能满足10nm以下的晶圆制造需求。
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